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Vous êtes ici : Accueil > Produits > Réflectomètres Multi sites/ In-Situ

Réflectomètres Multi sites/ In-Situ

Inline-monitoring-f30

F30

1. Améliore considérablement la productivité
2. meilleur rapport qualité/prix
3. Rapide et précis
4. Facile à utilisé

5. Système clé en main

L'outil le plus puissant disponible pour surveiller le dépôt de couches minces
Mesurez les taux de dépôt, l'épaisseur du film, les constantes optiques (n et k) et l'uniformité des semi-conducteurs et des couches diélectriques en temps réel avec le système de réflectance spectrale F30.

Exemple de couches
MBE et MOCVD: Des films lisses et translucides, ou légèrement absorbants, peuvent être mesurés. Cela inclut pratiquement tous les matériaux semi-conducteurs, de l'AIGaN au GaInAsP.

Réfléctométrie

F20

F20 :
Mesure ponctuelle >>

F40

F40 :
Adaptable sur microscope >>

F50

F50 :
Cartographie automatisée >>

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Applications Caractéristiques Accessoires Spécifications
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Applications 

  • MBE
  • MOCVD
  • Matériaux
  • Recherche
  • Dureté
  • Filtres
  • Revêtement antireflet
Process film image
Medical devices image
Oled image
Photoresist image

Plus d'info sur les applications

- Amorphe et polysilicium
- Diélectriques
- Épaisseur dure
- Analyse d'échec IC
- ITO et autres TCO
- Équipement médical
- Épaisseur du métal
- Microfluidique
- OLED
- Revêtements ophtalmiques
- Parylene Coatings
- Photoresist
- Silicium poreux
- Films de traitement
- Indice de réfraction & k
- Plaquettes et membranes de silicium
- Applications solaires
- Laboratoires d'enseignement sur les semi-conducteurs
- Rugosité et finition de surface

Parfaitement adapté à la métrologie en production

Usages multiples

Le F30 regroupe plusieurs instruments: il s’agit d’un outil d’étalonnage pré-dépôt permettant d’ajuster une recette de traitement avant le dépôt réel, d’un moniteur en temps réel du processus de dépôt en couche mince, d’un capteur de défauts et d’un instrument d’évaluation post-dépôt la structure multicouche complétée.

 

Mesure de dépôt

Pour les couches en croissance, le F30 surveille en permanence la réflectance de l'échantillon à une ou plusieurs longueurs d'onde. Les propriétés optiques de la couche déposée produisent des oscillations de brouillage uniques dépendantes du temps dans le signal de réflectivité. L'analyse "d'interface virtuelle" de ces oscillations permet de déterminer facilement le taux de dépôt de la couche et les constantes optiques avec une précision de 1%. Les couches sous-jacentes étant automatiquement comptabilisées, aucune connaissance du dépôt précédent n'est requise.

La mesure simultanée du taux de dépôt à deux endroits ou plus révèle l'uniformité de l'échantillon. Le F30 fournit également un moyen efficace de détecter le rugosité de la surface associée aux transitions eutectiques utilisées pour l’étalonnage en température.
Mesure des couches statiques
Pour les couches statiques (inchangées), le F30 mesure le spectre de réflectance de l'échantillon, puis analyse ces données avec des routines de simulation puissantes pour déterminer l'épaisseur de la couche et ses constantes optiques. Toute couche dans une pile de quatre couches au maximum peut être mesurée de cette manière.

Screenshot f30 video med-large

Un système qui répond à vos besoins, y compris les applications multi-wafer

Le F30 comprend tout le nécessaire pour les mesures in situ: spectromètre, source de lumière, câble à fibres optiques et lentilles. Des montures d'objectif spéciales sont disponibles pour les applications à accès restreint, comme c'est souvent le cas dans le MOCVD. Une simple option de correction multi-wafer / wobble est également disponible - aucune pièce ou matériel de synchronisation compliqué n'est requis.

 

Interface Windows TM intuitive

Après une brève opération de configuration, la plupart des mesures ne nécessitent que quelques opérations à la souris. Les utilisateurs novices peuvent être formés en quelques minutes. Les données mesurées, ainsi que leurs détails, sont facilement sauvegardés et exportés

AVANTAGES

- Améliore considérablement la productivité
- meilleur rapport qualité/prix
- Rapide et précis
- Facile à utilisé

- Système clé en main

 

Accessoires

Nist

NIST-traceable thickness standard

Vis-uv

F50 small spot option, VIS-UV

Specifications

Model Specifications 

Model Thickness Range* Wavelength Range
F30 15nm - 70µm 380-1050nm
F30-UV 3nm - 40µm 190-1100nm
F30-NIR 100nm - 250µm 950-1700nm
F30-EXR 15nm - 250µm 380-1700nm
F30-UVX 3nm - 250µm 190-1700nm
F30-XT 0.2µm - 450µm 1440-1690nm

*film stack dependent

Thickness Range*

F30 range

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Nous vous répondrons dans un délai de 24h

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